
EQUIPMENT 01
微波等离子清洗技术
Microwave Plasma Cleaning Technology
面向 IGBT / SiC 功率器件、半导体芯片、陶瓷基板等精密工件,真空环境实现全域均匀处理,绿色环保。可一站式清除工件表面金属氧化还原、微米级别粉尘去除,高效完成氧化还原与表面清洗,解决键合、塑封、点胶前界面污染、附着力不足问题,提升精密器件良率与工艺稳定性。
真空环境全域均匀处理氧化还原微米级清洗提升良率
专注微波等离子体技术研发,面向半导体、新能源、消费电子、汽车、生物医疗等领域,高效解决工件表面活化、微米级污染物清除等制程痛点,面向先进制造领域提供智能化设备与工艺解决方案。

面向 IGBT / SiC 功率器件、半导体芯片、陶瓷基板等精密工件,真空环境实现全域均匀处理,绿色环保。可一站式清除工件表面金属氧化还原、微米级别粉尘去除,高效完成氧化还原与表面清洗,解决键合、塑封、点胶前界面污染、附着力不足问题,提升精密器件良率与工艺稳定性。

针对玻璃基板、6C 电子组件、半导体载板等元器件,采用干式高频超声非接触工艺,剥离表面浮尘、金属碎屑等固态颗粒物,避免因污染物导致工件不良;可直接对接产线,实现大批量工件快速在线自动化除尘。
覆盖五大先进制造领域,以智能化设备与工艺解决制程中的表面处理与洁净需求。
以技术驱动、工程化落地与质量闭环,连接客户需求与交付价值。